VIRTUAL STEALTH-WAND? ELITE VVSW-NC-MW8八寸晶圓吸筆套件可接在30~50psi真空度的壓縮空氣或氮?dú)庀逻\(yùn)行,常閉設(shè)置當(dāng)按住按鈕時(shí)才會(huì)接通以節(jié)省氣源,可以通過(guò)調(diào)節(jié)輸入壓力來(lái)控制真空度,非常適合在工廠車(chē)間環(huán)境處理薄晶圓Wafers,吸筆頭可更換成4、6、8及12寸PEEK防靜電吸盤(pán)。
美國(guó)Virtual STEALTH-WAND(常開(kāi)型VVSW-NO)和STEALTH-WAND™ ELITE(常閉型VVSW-NC)真空晶圓吸筆套件用于連接廠務(wù)壓縮空氣或氮?dú)鈿庠聪到y(tǒng),通過(guò)氣管連接VACUUM PEN真空吸筆桿,筆桿前端插入防靜電PEEK吸筆頭,應(yīng)對(duì)各種厚度規(guī)格及尺寸的Wafer晶圓硅片、太陽(yáng)能電池片等平面物體吸取轉(zhuǎn)移操作,可以通過(guò)調(diào)節(jié)輸入壓力來(lái)控制真空度。Virtual VVSW-NC-MW8晶圓吸筆套件隨附:常閉型真空筆桿手柄、VMWT-C八寸晶圓吸筆頭、VBM-4吸筆支架、6尺長(zhǎng)1/16英寸空氣軟管、1/8 NPT至1/16“螺紋適配器用于連接外部氣源,將方形吸頭垂直接觸晶片,然后按住按鈕并保持即可接通真空系統(tǒng)吸住物體,將晶圓片移至所需位置釋放控制按鈕以釋放。
STEALTH-WAND™ELITE VVSW-NC常閉型晶圓真空吸筆直接在30至50 psi的壓縮空氣或氮?dú)庀逻\(yùn)行。ESD防靜電常閉設(shè)置的STEALTH-VAC™Elite吸筆桿VACUUM PEN™包含一個(gè)耳語(yǔ)安靜的低噪音Venturi文丘里效應(yīng)真空發(fā)生器,僅在按下控制按鈕時(shí)才會(huì)激活,不使用時(shí)為斷開(kāi)狀態(tài),這有助于節(jié)省工廠壓縮空氣??梢酝ㄟ^(guò)調(diào)節(jié)輸入壓力來(lái)控制真空度,這個(gè)功能對(duì)于處理薄晶圓很重要:
輸入50 psi時(shí),真空水平為21 InHg,自由空氣流量為2 lpm
輸入30 psi時(shí),真空度為18 InHg,自由空氣流量為1.75 lpm
輸入10 psi時(shí),真空度為3 InHg,壓力為0.75 lpm自由氣流
STEALTH-WAND™ ELITE真空常閉型VVSW-NC系列:
連接30至50 psi的廠務(wù)壓縮空氣或氮?dú)?,通過(guò)調(diào)節(jié)輸入壓力控制真空度,按住按鈕并維持接通狀態(tài),松開(kāi)按鈕釋放晶圓
VVSW-NC-MW4四寸晶圓吸筆套件:STEALTH-WAND™ ELITE Kit With (VMWT-A) Wafer Tip
VVSW-NC-MW6六寸晶圓吸筆套件:STEALTH-WAND™ ELITE Kit With (VMWT-B) Wafer Tip
VVSW-NC-MW8八寸晶圓吸筆套件 常閉型:STEALTH-WAND™ ELITE Kit With (VMWT-C吸筆頭) Wafer Tip
VVSW-NC-MW12 12寸晶圓吸筆套件:STEALTH-WAND™ ELITE Kit With (VMWT-D) Wafer Tip
以上套件均包含筆桿、吸筆頭、2米氣管及筆座支架;VVSW-NO-X單獨(dú)筆桿:STEALTH-WAND™ Handle Only
另有STEALTH-WAND常開(kāi)型VVSW-NO系列:
連接30至70 psi的廠務(wù)壓縮空氣或氮?dú)?,真空常開(kāi)接通氣源,不操作按鈕即可吸取并保持,按下按鈕釋放
在70 psi輸入下,真空水平為20 InHg,自由空氣流量為4 lpm
在30 psi輸入下,真空水平為10 InHg,自由空氣流量為3 lpm
在10 psi輸入下,真空水平為2 InHg,自由氣流為1 lpm
VVSW-NO-MW8八寸真空晶圓吸筆 常開(kāi)型, STEALTH-WAND™ Kit With (VMWT-C吸筆頭) Wafer Tip
VVSW-NO-MW4常閉型晶圓吸筆4寸、VVSW-NO-MW6晶圓吸筆6寸、VVSW-NO-MW12晶圓吸筆12寸
VVSW-NO-X常開(kāi)型真空筆桿STEALTH-WAND™ Handle Only